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高精密平面抛光设备

高精密平面抛光设备

 详情说明

设备用途 
广泛应用于大型模具、手机面板、手机外壳、各种LOGO、大型玻璃、导光板,陶瓷板、阀片、五金零部件等平面抛光。

设备原理 
1、本研磨为精密抛光设备,被磨、抛材料放于抛光盘上,抛光盘逆时钟转动,转速可控,加压气缸对工件施压或砝码加压,工件与抛光盘作相对运转磨擦,来达到抛光目的。

2、此设备配合高精密平面抛光机使抛光盘平整度达到±0.003mm,确保高精密零部件加工的稳定性,大大节省时间。

设备特点 
1、系列抛光机工件加压采用气缸加压或砝码加压的方式,压力可调; 

2、系列抛光机采用按钮控制或PLC程控,速度可调,操作方便。

3、研磨抛光机采用自动滴液系统,滴液速度可调,流速均匀,方便控制成本。 

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